Radiotechnik - Pekin
Płaca 6200 $

Требования:

• иметь опыт проектирования и разработки оборудования для очистки в полупроводниковой и полупроводниковой промышленности, а также понимать процесс применения сухой и влажной очистки, связанный с полупроводниками.

• быть знакомым с выбором материала ultra pure system, процессом обработки, обработкой деталей из конструкционных пластиковых деталей, принципом пневматического и гидравлического давления и принципом управления чистящим оборудованием. возможность независимого редактирования логики управления.

• разработка новых технологий очистки и оптимизации процессов полупроводниковых пластин, а также соответствовать строгим требованиям к очистке, предъявляемым развитием функциональных узлов микросхем.

• Опыт работы 10+ лет, связанный с проектированием и разработкой фотогальванического, полупроводникового и другого очистительного оборудования, а также способность самостоятельно брать на себя ответственность за проекты по разработке оборудования в качестве основных позиций по механическому, структурному и системному проектированию.

• степень бакалавра или выше, электронная инженерия, фотоэлектрическая связь, физика полупроводников, проектирование систем микросхем, механическое проектирование и другие смежные специальности, свободное владение английским языком, умение использовать все виды программного обеспечения и инструментов разработки.